在半导体超纯水制备中，紫外线（UV）TOC脱除技术是一项不可或缺的深度净化工艺。它利用185nm紫外线激发产生的羟基自由基，将微量的有机物高效、无污染地氧化去除，并与后续的抛光混床离子交换器形成完美配合，共同保障出水的TOC稳定低于1ppb，满足*严苛的半导体制造需求。该技术的特点是高效、清洁、可靠，是现代超纯水系统中抛光处理的标杆技术。

       半导体工艺，如光刻、蚀刻、清洗等，对超纯水的纯度要求达到了近乎极致的程度。TOC代表水中有机物的总量，即使浓度在ppb（十亿分之一）甚至ppt（万亿分之一） 级别，也会造成严重问题，此时就需要用到紫外线技术脱除TOC，这个技术并非简单的“杀菌”或“分解”，而是一个复杂的光化学氧化过程，其核心是 “紫外氧化”。

       我司生产的TOC脱除器能有效解决在半导体超纯水中TOC过高的问题，该项目采用我司8台设备并联的方式同时运行，效果良好。